1.应用范围

使用在半导体工程中CVD(Chemical Vapor Deposition)Process
Noveuus设备的wafer(半导体生产上的配件: Silicon Substrate)
Heating中。

2.用处说明

为了保持工程上必需的适当温度(400℃),用此Heater把热
传达到Wafer上面.为了顺利地进行工程有着自动调整温度的
技能并帮助把Wafer安顿设备里面安全的进行工程。